润滑与密封

北大核心,CA,JST,CSCD扩展版,WJCI

国内刊号:44-1260/TH

国际刊号:0254-0150

润滑与密封杂志2020年第4期:磁场分布对多磨头磁流变抛光材料去除的影响

发布日期:

作者:路家斌,宾水明,阎秋生,黄银黎,熊强

单位:广东工业大学机电工程学院,,广东工业大学机电工程学院,,广东工业大学机电工程学院,,广东工业大学机电工程学院,,广东工业大学机电工程学院,

关键词:多磨头;磁流变抛光;磁场分布;材料去除;磁感应强度;塑性去除

基金:NSFC-广东省联合基金项目(U1801259);国家自然科学基金项目(51375097).

为研究磁场分布对材料去除的影响,设计轴向充磁异向排布、轴向充磁同向排布、径向充磁异向排布、径向充磁同向排布4种磁铁充磁和排布方式,利用有限元软件Maxwell仿真不同磁场的磁力线分布及抛光轮表面的磁感应强度分布,并采用数字特斯拉计测量实际磁感应强度。对单晶硅基片进行定点抛光试验,检测抛光斑沿抛光轮轴向的去除轮廓及峰值点的表面形貌。仿真和实际磁感应强度检测结果表明,不同磁场分布方式对抛光区的磁场分布有很大影响,磁铁轴向充磁同向排布与径向充磁异向排布时,具有较高的磁场强度和较好的多磨头效果。定点抛光试验表明,采用轴向充磁同向排布与径向充磁异向排布这两种方式时,能实现多点加工,其中轴向充磁同向排布时加工效率较高;但采用径向充磁同向排布时,由于抛光区磁感应强度较低,磁流变微磨头无法对工件进行有效地抛光。峰值点表面形貌检测结果表明,采用不同磁场分布方式时,对工件表面均是以塑性去除方式去除。研究表明,通过优化磁铁充磁和排布方式,可实现多磨头磁流变抛光的加工原理。

来源:2020年第4期

《润滑与密封》期刊编辑部

查看润滑与密封杂志2020年第4期

联系我们

  • 地址:广东省 广州市黄埔区茅岗路828号
  • 电话:020-32385313
  • E-mail:rhymf@gmeri.com

咨询工作人员