润滑与密封

作者：杨思远，苑晓策，李庆忠

单位：江南大学机械工程学院,,江南大学机械工程学院,,江南大学机械工程学院,

关键词：化学机械抛光;精细雾化;TC4钛合金;抛光液;SiO2磨料

配制适用于TC4钛合金雾化施液抛光的特种抛光液，通过抛光实验获得纳米级的光滑钛合金表面。研究不同磨料、氧化剂和络合剂含量对钛合金材料去除率和表面粗糙度的影响，通过正交试验优化抛光液组成及配比。优化后的抛光液由质量分数20%的SiO2磨料、0.1%的柠檬酸、1%的聚乙二醇-400、2%的H2O2组成，pH值为4。抛光试验结果表明，优化后抛光液的抛光效果较好，材料去除率及试件表面质量均有所提升，其中材料去除率为549.87nm/min，表面粗糙度为0.678 nm。XPS分析表明，抛光过程中钛合金表层在酸性环境下与H2O2和柠檬酸反应，生成了易于通过机械作用去除的氧化层。

来源：2022年第10期

《润滑与密封》期刊编辑部

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