润滑与密封

作者：孟妮，张祥龙，李相辉，谢顺帆，邱宇轩，聂申奥，何彦刚

单位：河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室,,河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室,,河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室,,河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室,,河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室,,河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室,,河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室,

关键词：化学机械抛光;铜;混合缓蚀剂;苯并三氮唑;表面粗糙度

基金：国家科技重大专项项目（2016ZX02301003-004-007）；河北省自然科学基金项目（F2018202133）

在铜化学机械抛光中，由于典型缓蚀剂苯并三氮唑（BTA）对铜表面化学保护作用非常强烈，造成铜去除速率过低的现象。为了获得更好的缓蚀效果和铜表面质量，在近中性溶液中，对BTA缓蚀剂和新型缓蚀剂2,2′-［［(甲基- 1H -苯并三唑-1-基)甲基］亚氨基］双乙醇-（TT-LYK）的缓蚀效果进行比较，并对2种缓蚀剂的复配效果进行研究。结果表明：在近中性溶液中，BTA和TT-LYK均可以有效抑制铜表面腐蚀；2种缓蚀剂复配后具有协同作用，添加到抛光液中可得到更好的铜表面质量和更低的粗糙度，这可能是由于2种缓蚀剂的钝化膜类别相似，使得在一种缓蚀剂形成配合物的基础上，另一种缓蚀剂对生成的钝化膜进行补充，使得双层钝化膜更致密，能更好地保护铜表面不受腐蚀。

来源：2024年第2期

《润滑与密封》期刊编辑部

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